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大直径硅材料经过切片、研磨、钻孔、腐蚀、抛光、检验等多道精密加工步骤后可制成等离子刻蚀机用的硅零部件如：上电极硅片托环等等离子刻蚀机的气体通过气体分配盘经由硅上电极的上千个细微小孔进入刻蚀机腔体中在一定电压的作用下形成高强度的等离子体若细微小孔的孔径不一致会影响到电路刻蚀的精度从而造成芯片良率的下降；同时上电极及硅片托环与芯片同处于刻蚀机腔体中受等离子体的刻蚀后逐渐变薄当这些硅零部件厚度减少到一定程度后需替换新的硅零部件以满足等离子刻蚀机所需要的工艺条件因此硅零部件是晶圆制造刻蚀工艺的核心耗材硅零部件的物理特性和化学特性对于晶圆表面的沟槽精度、均匀性等指标有着重大影响

马鸿运责编 刘悠翔